amsの新しい高性能アナログ技術「A30」、卓越したノイズ性能を実現 Neue analoge CMOS Technologie A30 von ams bietet deutlich reduziertes Rauschverhalten
ams（日本法人：amsジャパン株式会社、東京都品川区、カントリーマネージャー 岩本桂一）は本日、高性能アナログ低ノイズCMOSプロセス（「A30」）の提供開始を発表しました。卓越したノイズ性能を発揮するこの新しいA30プロセスは、amsの先進0.35µm高耐圧CMOSプロセスファミリを0.9倍に光学縮小することで実現されました。
A30プロセスは、最適化された性能、3.3Vの絶縁型デバイス（NMOSIおよびPMOSI）、3.3Vの絶縁型低Vtデバイス（NMOSILおよびPMOSIL）、薄いゲート酸化膜を持つ絶縁型高耐圧デバイス（NMOSI20T）、縦型バイポーラトランジスタ（VERTN1およびVERTPH）、ならびに0.46 pA/ÖHz (@1kHz, Ids=1µA @Vds=3V, 10x1.2µm²）のレベルまでフリッカノイズを抑えた3.3Vの絶縁型超低ノイズトランジスタ（NMOSISLN）を特長としています。これにより、H35プロセスと比較して、高ドレイン電流に対して少なくとも4分の1から10分の1にフリッカノイズを減少させることができます。さらに、各種キャパシタ（ポリ、サンドイッチ型、MOSバラクタ）や抵抗（拡散、ウェルベース、ポリ、高抵抗ポリ、高精度）など、多種な受動デバイスが提供されます。
A30プロセスは、ノイズに対して最適化された入力ステージまたは高い信号対雑音比を必要とする超低ノイズセンシングアプリケーションやアナログ読み出しICに最適です。この技術より、家電、車載、医療、IoTデバイス向けの革新的ソリューションの開発が可能となります。A30プロセスは既に製造基準を満たしており、非常に低い欠陥密度と、高い歩留まりを保証するamsの最先端のオーストリア200mmウェハ工場で製造されています。0.30µmデバイスはすべて、0.35µmデバイスとして設計・検証されます。光学縮小（0.9倍）は、マスクショップにて完全なGDSIIデータ上で行われ、結果としてそれぞれのダイサイズが縮小、ウェハ当たりのダイ数の増加を可能にしています。
ams、フルサービス・ファウンドリ事業部門ジェネラルマネージャ、マーカス・ウクセのコメント「当社の高性能アナログ低ノイズプロセスであるA30は、優れたノイズ性能が必須となるセンシングアプリケーションやアナログ読み出しICの開発を可能にします。ファウンドリカスタマは、A30プロセスを複雑なICに用いる際に2つの面で恩恵を受けます。1つは、業界ベンチマークのフリッカノイズ指数を有する超低ノイズトランジスタにより性能が向上するということ。2つ目は、光学縮小がノイズに敏感なアプリケーションのダイ面積を大幅に減少させることです」
A30プロセスはamsの業界ベンチマークプロセスのデザインキット、hitkitによってサポートされています。ケイデンス社のVirtuoso® Custom IC technology 6.1.6をベースとした最新のhitkitは、開発チームにとって、アナログ集約型ミックスドシグナル市場で高い競争力を持つ製品の開発期間の大幅な短縮に貢献します。高精度のシミュレーションモデル、CalibreおよびAssura両ツールに対応した抽出・検証実行環境やフレキシブルなSKILLベースのPCellの提供により、新しいhitkitは、包括的なデザイン環境と実績のあるシリコンへのパスを提供します。この最新のA30用hitkit「v4.15」はamsのFoundry Support Serverにて提供されます。https://ifoundry.ams.com
フルサービス・ファウンドリの総合的なサービスおよび技術ポートフォリオに関する詳しい情報は、こちらのサイトをご覧ください。https://ams.com/ja/full-service-foundry
Premstätten, Österreich (6. Dezember 2016) -- ams AG (SIX: AMS), ein führender Entwickler und Hersteller von hochwertigen analogen ICs und Sensoren, hat heute die Verfügbarkeit seines analogen, extrem rauscharmen Hochleistungs-CMOS-Prozesses („A30“) bekannt gegeben. Der neue A30-Prozess beinhaltet Transistoren mit deutlich reduziertem Rauschverhalten. Zusätzlich wird die Chip-Fläche mittels optischer Verkleinerung um 10% im Vergleich zur aktuellen 0,35-µm-Hochvolt-CMOS-Prozessfamilie von ams reduziert.
Die neue A30-Technologie bietet leistungsoptimierte, isolierte 3,3-V-Transistoren (NMOSI und PMOSI), isolierte 3,3-V Transistoren mit niedriger Schwellenspannung (NMOSIL und PMOSIL), einen isolierten Hochvolt-Transistor mit dünnem Gate-Oxid (NMOSI20T), vertikale bipolare Transistoren (VERTN1 und VERTPH) sowie einen isolierten 3,3-V-Super-Low-Noise-Transistor (NMOSISLN) mit einem Flicker-Rauschen von 0,46 pA/ÖHz (bei 1 kHz, Ids = 1 µA bei Vds = 3 V, 10 x 1,2 µm²). Dies ermöglicht eine Reduktion des Flicker-Rauschens um mindestens den Faktor 4 bis 10 im Vergleich zum H35-Prozess. Passive Elemente wie verschiedene Kondensatoren (Poly, Sandwich und MOS-Varaktor) und Widerstände (Diffusion, Well-basierend, Poly, hochohmiges sowie hochgenaues Poly) vervollständigen das Angebot.
Der A30-Prozess ist ideal für rauscharme Sensoranwendungen und analoge Read-Out-ICs, die rauschoptimierte Eingangsstufen oder hohe Signal-Rausch-Verhältnisse benötigen. Er ermöglicht die Entwicklung innovativer Lösungen in der Unterhaltungselektronik, im Automobilbereich, der Medizintechnick und für IoT-Applikationen. Der A30-Prozess ist vollständig qualifiziert und wird in der hochmodernen 200-mm-Produktionsstätte von ams in Österreich produziert. Dies gewährleistet niedrigste Defektdichten und höchste Produktionsausbeuten. Alle 0,30-µm-Elemente werden als 0,35-µm-Elemente gezeichnet und verifiziert. Die optische Verkleinerung um den Faktor 0,9 erfolgt bei der Maskenerstellung für die bereits fertigen Layout-Daten und führt so zu kleineren Chipflächen bzw. mehr Chips pro Wafer.
„Unser neuer analoger Hochleistungs-Prozess A30 ermöglicht die Entwicklung kompetitiver Sensor-
anwendungen und analoger Read-Out-ICs, bei denen signifikant reduziertes Rauschverhalten höchste Priorität hat“, sagt Markus Wuchse, General Manager der Full-Service-Foundry Divisison bei ams. „Foundry-Kunden profitieren doppelt, wenn sie unseren A30-Prozess für ihre komplexen ICs verwenden: Der Super-Low-Noise-Transistor mit branchenbestem Flicker-Rauschen erhöht die Leistung signifikant, während der optische Shrink die Chipfläche rauschempfindlicher Anwendungen erheblich reduziert.“
Der A30-Prozess wird durch die branchenweit führende Designumgebung (hitkit) von ams unterstützt. Basierend auf Virtuoso®-Custom-IC- 6.1.6 von Cadence®, verringert der neue hitkit die Entwicklungszeiten für hochkompetitive, leistungsfähige Produkte im Bereich analog-lastiger Mixed-Signal-Anwendungen erheblich. Mit hochpräzisen Simulationsmodellen und parametrisierbaren Device-Layout-Generatoren (PCells) ebnet ams‘ umfangreiche Designumgebung den Weg zu funktionierenden ICs. Das neue hitkit v4.15 für den A30-Prozess ist ab sofort auf unserem Foundry-
Support-Server unter https://ifoundry.ams.com verfügbar.
Erfahren Sie mehr über das umfassende Service- und Technologie-Angebot der Full-Service-Foundry unter https://ams.com/full-service-foundry.